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Octafluorpropan – C3F8 – Qualität & Service – Messer - Specialty Gases

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OCTAFLUORPROPAN C3F8

Produkte und Anwendungen von Octafluorpropan

Verschachtelte Anwendungen

Octafluorpropan - Part 1

Octafluorpropan

Octafluorpropan (C3F8, auch bekannt als Perfluorpropan) ist ein farbloses Gas mit ätherischem Geruch, das weder brennbar noch giftig ist. Der alternative Name weist bereits darauf hin, dass es sich bei C3F8 um das Pendant der Perfluorkohlenstoffe zu Propan handelt, bei dem alle Wasserstoffbindungen durch Fluoratome ersetzt werden. Sein Siedepunkt liegt bei -36,7 °C (236,5 K) und seine Dichte beträgt 8,047 kg/m³ bei 15 °C / 1000 mbar. Aufgrund des relativ niedrigen Dampfdrucks von 7,67 bar (bei 20,0 °C) liegt Octafluorpropan in einer Druckgasflasche fast ausschließlich in der flüssigen Phase vor.

Octafluorpropan - Part 2

INDUSTRIELLE HERSTELLUNG VON OCTAFLUORPROPAN

Da auf der Erde keine natürlichen Quellen für Fluorkohlenstoffmoleküle existieren, wird Octafluorpropan ausschließlich über Reaktanten auf Kohlenstoff- bzw. Fluorbasis synthetisiert. Es gibt dabei zwei verschiedene Möglichkeiten, C3F8 in industriellem Maßstab herzustellen: Zum einen über die elektrochemische Fluorierung, bei der Fluorwasserstoff sowohl als Lösungsmittel als auch als Quelle für die Fluorierung durch Elektrosynthese verwendet wird; und zum anderen über das Fowler-Verfahren, bei dem Cobalt(III)-Fluorid zur Fluorierung des entsprechenden Kohlenwasserstoffs verwendet wird, sodass die Wasserstoffatome vollständig durch Fluor ersetzt werden.

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High Purity Octafluorpropan

Zusammensetzung
C3F8 ≥ 99.999 %
Verunreinigungen
O2 ≤ 2 ppmv
N2 ≤ 5 ppmv
CO2 ≤ 5 ppmv
CxFy ≤ 60 ppmv
H2O ≤ 3 ppmv
HF ≤ 0.1 ppmv

Octafluorpropan - Part 3

ANWENDUNGEN VON OCTAFLUORPROPAN

Während Octafluorpropan unter dem Namen R-218 als Kältemittel Verwendung findet, wird hochreines C3F8 hauptsächlich in zwei Plasmaanwendungen in der Halbleiterindustrie eingesetzt: Plasmaätzen von Wafern und Plasmareinigung von Vakuumkammern. Octafluorpropan kann in verschiedenen Ätzverfahren eingesetzt werden, z. B. für das selektive Plasmaätzen von Siliziumdioxid oder als Ätzmittel für das reaktive Ionenätzen. Bei letzterem ermöglicht das Verhältnis von Fluor zu Kohlenstoff (8:3) eine effiziente Reinigung der Vakuumkammern durch ein C3F8-Plasma. Beispiele für eine solche Plasmabehandlung mit Octafluorpropan werden nachfolgend skizziert.

Verschachtelte Anwendungen

Octafluorpropan - Etching

C3F8 Plasmaätzen

Hochreines Octafluorpropan ist ein ausgezeichnetes Ätzmittel für spezifische Anwendungen, beispielsweise für selektives Plasmaätzen von SiO2 mit C3F8 oder für reaktives Ionenätzen.

Anfrage C3F8 Kontakt

Octafluorpropan - Cleaning

C3F8 Plasmareinigung

Eine kontaminierte Vakuumprozesskammer kann aufgrund des relativ hohen Fluor-Kohlenstoff-Verhältnisses (8:3) durch eine Plasmabehandlung mit C3F8 effizient gereinigt werden.

Anfrage C3F8 Kontakt

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